一、集成電路超純水設備系統概述

集成電路超純水設備系統常用于工業中半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。隨著集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

超純水設備

二、集成電路超純水設備應用領域

1.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

2.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

3.電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4.顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

5. 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

6.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

7.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

8.集成電路生產中高純水清洗硅片

9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

10.高品質顯像管、熒光粉生產

11.半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

12.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

13.汽車、家電表面拋光處理

14.光電產品、其他高科技精微產品

三、集成電路用超純水設備水質標準

超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

四、集成電路超純水設備系統工藝流程

集成電路超純水設備系統采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm

1、采用離子交換方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點

2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點

3、采用EDI方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

新聞名稱：集成電路用超純水設備系統概述
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